紫外臭氧清洗機(jī)都有哪些應(yīng)用范圍呢？
紫外臭氧清洗機(jī)是不需要任何溶劑的干式清洗技術(shù)，對清洗表面沒有損傷。提供一種簡單，經(jīng)濟(jì)，快速獲得超潔凈的表面，去除大多數(shù)無機(jī)基材（比如石英，硅片，金，鎳，鋁，砷化鎵，氧化鋁*等）上的有機(jī)污染物。特別是當(dāng)基材和薄膜蒸鍍需要很好的粘接時，紫外清洗非常理想。獲得超潔凈的表面，只需要在傳統(tǒng)清洗后，再用紫外臭氧清洗過程幾分鐘就可以啦。可用于去除石英、硅片、金、鎳、鋁、砷化鎵、氧化鋁等大多數(shù)無機(jī)基材上的有機(jī)污染物，提供了一種、精密的清洗方式，也是表面改性的一種非常重要的技術(shù)。
紫外臭氧清洗機(jī)的應(yīng)用范圍十分廣泛，在現(xiàn)代信息技術(shù)行業(yè)中使用臭氧清洗技術(shù)比較普遍，隨著我國工業(yè)現(xiàn)代化的發(fā)展，還將逐步應(yīng)用于金屬、塑料、橡膠等工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域。
1、在LCD、OLED生產(chǎn)中，在涂光刻膠、PI膠、定向膜、鉻膜、色膜前經(jīng)過臭氧清洗，可以大大的提高基體表面潤濕性，增強(qiáng)基體表面的粘合力；
2、印制電路板生產(chǎn)中，對銅底板，印刷底板進(jìn)行臭氧清洗和改質(zhì)，在導(dǎo)線焊接前進(jìn)行清洗，可以提高熔焊的接觸面積，大大增加連接強(qiáng)度。特別是高精度印制電路板，當(dāng)線距達(dá)到亞微米級時，利用紫外臭氧清洗機(jī)可輕易地去除在線距之間很小的微粒，可以大大提高印制電路板的質(zhì)量。
3、大規(guī)模集成電路的密度越來越高，晶格的微細(xì)化越來越密，要求表面的潔凈度越來越高，可以有效地實現(xiàn)表面的原子清潔度，而且對芯片表面不會造成損傷。
4、在半導(dǎo)體生產(chǎn)中，硅晶片涂保護(hù)膜、鋁蒸發(fā)膜前進(jìn)行清洗，可以提高粘合力，防止針孔、裂縫的發(fā)生。
5、在光盤的生產(chǎn)中，沉積各種膜前作清洗準(zhǔn)備，可以提高光盤的質(zhì)量。
6、磁頭固定面的粘合，磁頭涂敷，以及提高金屬絲的連接強(qiáng)度，紫外臭氧清洗機(jī)清洗后效果更好。
7、石英晶體振蕩器生產(chǎn)中，除去晶體檢測后涂層上的墨跡，晶體在銀蒸發(fā)沉積前，進(jìn)行清洗可以提高鍍膜質(zhì)量和產(chǎn)品性能。
8、在IC卡表面插裝ROM前，經(jīng)過清洗可提高產(chǎn)品質(zhì)量。
9、彩色濾光片生產(chǎn)中，清洗后能*洗凈表面的有機(jī)污染物。
10、敷銅箔層壓板生產(chǎn)中，經(jīng)過紫外臭氧清洗機(jī)清洗后不僅表面潔凈而且表面形成十分均勻的保護(hù)氧化層，產(chǎn)品質(zhì)量顯著提高。
